[实用新型]一种用于InSb磁敏器件的薄膜材料结构有效
申请号: | 202122834444.3 | 申请日: | 2021-11-18 |
公开(公告)号: | CN216389426U | 公开(公告)日: | 2022-04-26 |
发明(设计)人: | 胡苹 | 申请(专利权)人: | 惠州学院 |
主分类号: | H01L43/10 | 分类号: | H01L43/10;H01L43/08 |
代理公司: | 西安方诺专利代理事务所(普通合伙) 61285 | 代理人: | 景丽娜 |
地址: | 516007 *** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种用于InSb磁敏器件的薄膜材料结构,包括陶瓷衬底层,所述陶瓷衬底层的顶部设置有覆盖层,且覆盖层上设置有绝缘层,并且绝缘层上铺设有薄膜层;还包括:透气孔,所述透气孔贯通开设于陶瓷衬底层的内部,且陶瓷衬底层的底部固定有金属底片;支撑条,所述支撑条固定于绝缘层的底部,且支撑条位于支撑槽内,并且支撑槽开设于覆盖层的顶部,而且支撑槽的底部放置有承压垫。该用于InSb磁敏器件的薄膜材料结构,通过陶瓷衬底层底部的金属底片配合耐磨头,增加陶瓷衬底层的耐磨性能,避免与电机接触安装时发生磨损,并配合透气孔提高陶瓷衬底层的散热效果,同时通过支撑条和承压垫进行承压缓冲,提高整体抗压性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 insb 器件 薄膜 材料 结构 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于惠州学院,未经惠州学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202122834444.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种导风板驱动装置及空调器
- 下一篇:一种用于煤矿输送带接头上的高强度皮带扣