[实用新型]一种高性能防虚焊薄膜电容有效

专利信息
申请号: 202122844133.5 申请日: 2021-11-18
公开(公告)号: CN216212909U 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 鲁廷立;黄炎 申请(专利权)人: 深圳京裕电子有限公司
主分类号: H01G4/33 分类号: H01G4/33;H01G4/228;H01G4/224;H01G4/002;H01G2/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及薄膜电容技术领域,且公开了一种高性能防虚焊薄膜电容,包括塑壳、薄膜卷、阴极引脚和阳极引脚,所述薄膜卷位于塑壳的内部,所述阴极引脚的左端和阳极引脚的右端均与薄膜卷的内部连接,所述塑壳的内壁设置有两个定位凸缘,所述塑壳的左右两侧均螺纹连接有端盖,两个端盖的中心处均开设有通孔,所述阴极引脚位于左侧通孔的内部,所述阳极引脚位于右侧通孔的内部。该高性能防虚焊薄膜电容,通过塑壳、薄膜卷、阴极引脚、阳极引脚、凹凸引脚、定位凸缘、端盖、通孔、环氧树脂层和直线引脚之间的相互配合,达到了增强引脚抗拉拔性能的效果,解决了现有薄膜金属引脚的抗拉拔能力较弱的问题。
搜索关键词: 一种 性能 防虚焊 薄膜 电容
【主权项】:
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