[实用新型]一种斜交式离化源的镀膜腔有效

专利信息
申请号: 202123023547.8 申请日: 2021-12-02
公开(公告)号: CN216378360U 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 李龙;李飞;李兰民 申请(专利权)人: 遵化市超越钛金设备有限公司
主分类号: C23C14/32 分类号: C23C14/32;C23C14/52
代理公司: 河北向往专利代理有限公司 13162 代理人: 徐海涛
地址: 064200*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型涉及镀膜机械技术领域,提出了一种斜交式离化源的镀膜腔,包括具有镀膜腔的壳体及设置在壳体上的抽气口,还包括等离子靶源和转动架,等离子靶源有若干个,均设置在壳体上,转动架有若干个,均转动设置在壳体的镀膜腔内,等离子靶源的输出端均向镀膜腔的中心偏移设置,其中,上下端分别为倾斜的离化源,通过上述技术方案,解决了现有技术中靶材溅射无法有效覆盖工件的问题。
搜索关键词: 一种 斜交式离化源 镀膜
【主权项】:
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