[实用新型]一种90°双目重构CVD腔体内三维空间装置有效
申请号: | 202123117128.0 | 申请日: | 2021-12-13 |
公开(公告)号: | CN217173858U | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 朱晓谦 | 申请(专利权)人: | 郑州天宏自动化技术有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 郑州铭科知识产权代理事务所(普通合伙) 41209 | 代理人: | 李宣宣 |
地址: | 450000 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种90°双目重构CVD腔体内三维空间装置,包括包括反应容器和支撑台,反应容器的正面设有添料口,反应容器的一侧设有检测口,反应容器远离检测口的一侧设有两个观察口;所述的支撑台包括底座,底座上设有支撑柱,支撑柱上端设有固定套筒,所述固定套筒的一侧设有工业相机。本实用新型通过在反应容器上设有两个观察口,使用两个工业相机从两个不同的角度对内部的反应物品进行观察,能够通过图像数据采样分析,通过不同角度的图像进行重构,反应相出内部的三维空间,并在特定的软件界面上显示出来,使操作者只需要操作软件就能从各不同的角度来观察内部的反应情况,将内部的反映情况可视化,便于测量与记录。 | ||
搜索关键词: | 一种 90 双目 cvd 体内 三维空间 装置 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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