[实用新型]一种锗单晶炉用防泄漏引流装置有效
申请号: | 202123142758.3 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN216427479U | 公开(公告)日: | 2022-05-03 |
发明(设计)人: | 吕远芳 | 申请(专利权)人: | 保定三晶电子材料有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B15/20;C30B29/08;C30B29/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 071000 河北省保*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种锗单晶炉用防泄漏引流装置,包括外置炉框、内炉体和引流气囊。本实用新型锗单晶炉用防泄漏引流装置,当外置炉框内部的气压过高时,气体通过进气口进入到外管框中并对密封垫进行挤压,密封垫在挤压的过程中,密封垫中心的通气孔扩张变大,气体通过通气孔后进入到气囊本体中,气体通过排气总管进入到排出管与回流管内,转动排出管上的梅花钮,安插柱从阀门框体内向外移出,气体通过透气孔后向外排出,同理转动回流管上的梅花钮,气体沿着回流管重新回到外置炉框内部,该装置能够在锗单晶炉内部气压过大时,主动对锗单晶炉内部进行气压的引流并收集,保持锗单晶炉内部气压的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 一种 锗单晶炉用防 泄漏 引流 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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