[实用新型]基于微影用途的光罩保持容器有效
申请号: | 202123212620.6 | 申请日: | 2021-12-20 |
公开(公告)号: | CN217279258U | 公开(公告)日: | 2022-08-23 |
发明(设计)人: | 陈啓仲 | 申请(专利权)人: | 陈啓仲 |
主分类号: | G03F1/66 | 分类号: | G03F1/66 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种基于微影用途的光罩保持容器,其供收纳限制一光罩,而该光罩保持容器包含有一第一视窗组及一第二视窗组,该第一、二视窗组分设于该光罩保持容器中相对光罩两个侧表面的侧面,且该第一、二视窗组分别具有一透明石英板,而该多个透明石英板的透光率大于或等于90%,又其中该第一、二视窗组的可视范围大于或等于该光罩的电路图案,以此,当该光罩收纳限制于该光罩保持容器后,能够于一微影设备内通过一微影光束由第一视窗组或二视窗组外部射入、且经该光罩后再由相对的第二视窗组或第一视窗组射出,使该微影光束投射通过光罩的电路图案转印至该工作载台的晶圆表面,且该光罩保持容器能够于一视觉检测设备内同步检知该光罩上、下表面的污染物。 | ||
搜索关键词: | 基于 用途 保持 容器 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
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