[实用新型]一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置有效

专利信息
申请号: 202123267174.9 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN216728482U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 范世昌 申请(专利权)人: 昆山阿尔玛电子设备有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B13/00
代理公司: 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 代理人: 杨敏
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种用于大板级扇出型封装基板的退膜显影清洗装置,包括:承载架体、喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元;承载架体用以承载固定喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元;喷淋显影单元用以通过在片状基板的表面喷淋预定的显影剂进行显影;退膜单元,用以对片状基板的表面进行退膜清洗,退膜单元包括超声退膜分单元及喷淋退膜分单元,超声退膜分单元用以通过底振超声清洗片状基板的表面薄膜,喷淋退膜分单元用以通过喷淋剥膜剂清洗片状基板的表面的薄膜。本实用新型通过喷淋显影单元、退膜单元及喷淋水洗单元的配合设置,依次对基板表面进行喷淋显影,喷洗退膜及喷淋水洗,从而实现基板表面薄膜的彻底脱膜且显影清晰。
搜索关键词: 一种 用于 大板级扇出型 封装 显影 清洗 装置
【主权项】:
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