[实用新型]一种用于硅片表面加工的磨削装置有效

专利信息
申请号: 202123327447.4 申请日: 2021-12-27
公开(公告)号: CN217072043U 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 高哲;张海波;王楠;宋洋;谢岩 申请(专利权)人: 锦州神工半导体股份有限公司
主分类号: B24D7/06 分类号: B24D7/06;B24D7/14;B24D7/10
代理公司: 北京易捷胜知识产权代理事务所(普通合伙) 11613 代理人: 薛晓萌
地址: 121000 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 实用新型涉及一种用于硅片表面加工的磨削装置,涉及半导体硅片加工技术领域。磨削装置包括环状主体,磨削装置上设置有磨削组件。磨削组件包括多个环状磨削件,相邻两个环状磨削件之间形成周向间隙。环状磨削件包括多个磨削单体,且磨削单体呈扇形结构,两个磨削单体之间形成径向间隙。周向间隙和径向间隙之间相连通形成磨削液流动槽。在通过磨削单体对硅片表面加工的过程中,磨削液能够形成水流在硅片工件表面,降低表面温度。而且,多个扇形结构的磨削单体铺设于安装端面相比较圆柱状的磨砂轮而言,与硅片工件表面的接触效果更好,减少磨损增加使用寿命,加强了磨削的面积,提高了工作效率从而降低工作台和磨头的转速。
搜索关键词: 一种 用于 硅片 表面 加工 磨削 装置
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