[实用新型]一种硅片研磨液前处理装置和硅片研磨设备有效
| 申请号： | 202123365614.4 | 申请日： | 2021-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN216791798U | 公开（公告）日： | 2022-06-21 |
| 发明（设计）人： | 何刚;程远梅;赵莉珍;温涛 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N27/626 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 顾春天 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种硅片研磨液前处理装置和硅片研磨设备。硅片研磨液前处理装置包括：反应釜，用于去除研磨液中的基质；定容液供给组件，与所述反应釜连接，所述定容液供给组件用于向所述反应釜供给定容液；浓缩柱，用于分离和浓缩研磨液中的金属元素，所述浓缩柱的输出端与检测设备连接。多通阀，所述反应釜与所述多通阀连接，所述多通阀还与废液管连接，所述多通阀用于控制所述反应釜与所述废液管连通，或者控制所述反应釜与所述浓缩柱连通。本实用新型实施例提高了对于研磨液中金属元素的检测的便利性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 研磨 处理 装置 设备 | ||
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