[发明专利]CVD反应器和用于调节基板的表面温度的方法

摘要

本发明涉及一种CVD反应器和一种用于控制/调节布置在CVD反应器内的基板的表面温度的方法，所述基板布置在基板保持件(3)上，所述基板保持件例如被动态的气垫支撑，其中，依次分别测量配属于基板保持件(3)的表面温度的实际值(Tn)，并且通过改变气垫(7)的高度将表面温度调节到一个共同值。按照本发明规定，在每次测量配属于基板保持件(3)的测得的表面温度的实际值(Tn)之后，在使用最后测得的一个或多个基板保持件(3)的表面温度的实际值(Tn)的情况下确定一个值(MT)，通过计算求在测量过程中测得的实际值(Tn)与所述值(MT)之间的差，来计算出配属于所述基板保持件(3)的差值(dTn)，并且通过将配属的差值(dTn)与所述值(MT)相加，来计算出针对至少一个其它的基板保持件(3)的近似的实际值(Tn')，该近似的实际值被用于调节/控制。