[发明专利]用于曝光浮雕前体的设备和方法在审
| 申请号： | 202180010729.5 | 申请日： | 2021-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN115004112A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 德克·卢多·朱利安·德·劳;皮尔特·蓝森斯;弗雷德里克·德弗 | 申请（专利权）人： | 阿合斯印前有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 关志琨 |
| 地址： | 比利时*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于曝光浮雕前体(P)的设备，该浮雕前体(P)包括基板层和至少一个光敏层，所述设备包括：第一光源(1)，其被配置成照射浮雕前体的第一侧；可移动的第二光源(2)，其被配置成照射浮雕前体的与第一侧相对的第二侧；可移动屏蔽件(3)，其位于第一光源与第二光源(2)之间，并且被配置成捕捉第二光源的透过浮雕前体(P)的光的至少一部分；以及移动装置，其被配置成使可移动屏蔽件与第二光源同时移动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 浮雕 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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