[发明专利]由有机钌化合物构成的化学蒸镀用原料及使用该化学蒸镀用原料的化学蒸镀法在审
申请号: | 202180011325.8 | 申请日: | 2021-01-28 |
公开(公告)号: | CN115003855A | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 原田了辅;津川智广;大武成行;李承俊;小次洋平 | 申请(专利权)人: | 田中贵金属工业株式会社 |
主分类号: | C23C16/18 | 分类号: | C23C16/18;C07F15/00;H01L21/285 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 常海涛;金小芳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及化学蒸镀法用的有机钌化合物原料。有机钌化合物是三亚甲基甲烷系配体(L |
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搜索关键词: | 有机 化合物 构成 化学 蒸镀用原 料及 使用 蒸镀用 原料 蒸镀法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的