[发明专利]高频处理装置在审
| 申请号： | 202180014965.4 | 申请日： | 2021-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN115104379A | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 大森义治;细川大介;中村秀树;前田和树;夘野高史 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | H05B6/64 | 分类号： | H05B6/64;H05B6/68;H05B6/70 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 曹磊;马建军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的一个方式的高频处理装置具备：收纳被加热物的加热室；振荡部；至少一个供电部；检测部；以及控制部。振荡部产生具有规定的频带中的任意频率的高频电力。至少一个供电部将基于高频电力的入射电力向加热室供给。检测部对入射电力和从加热室返回到至少一个供电部的反射电力进行检测。控制部使振荡部进行频率扫描，并且基于包含频率的每个加热条件的入射电力和反射电力来测定反射特性。控制部基于每个加热条件的表示反射特性的变化的反射变动幅度来决定接下来使用的加热条件。根据本方式，能够最佳地加热各种被加热物。 | ||
| 搜索关键词： | 高频 处理 装置 | ||
【主权项】：
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