[发明专利]高频生成装置在审
| 申请号： | 202180024792.4 | 申请日： | 2021-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN115336397A | 公开（公告）日： | 2022-11-11 |
| 发明（设计）人： | 村井浩一 | 申请（专利权）人： | 东京计器株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H05H1/24;A61L2/14 |
| 代理公司： | 北京市商泰律师事务所 11255 | 代理人： | 麻吉凤;毛燕生 |
| 地址： | 日本国东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高频生成装置(2)，其使由高频放大器放大并供给到等离子体生成电极的高频电力中的高次谐波减少，其中，高频生成装置具备生成将补偿波和基波合成而得的合成波的高频生成部(201)，补偿波是将由基波的输入而生成的高次谐波的相位反转而成。 | ||
| 搜索关键词： | 高频 生成 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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