[发明专利]用于重叠的测量模式在审
| 申请号： | 202180032424.4 | 申请日： | 2021-05-17 |
| 公开（公告）号： | CN115552228A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | A·玛纳森;A·V·希尔;G·拉雷多 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/956 | 分类号： | G01N21/956;G01N21/88;G01N21/47;G01N21/59;G06T7/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 刘丽楠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种重叠度量工具可包含：照射源；照射光学器件，其用以使一或多个照射束照射具有周期性特征的重叠目标；聚集光学器件，其用以将衍射光从所述重叠目标的所述周期性特征引导到检测器；可调整光瞳掩模，其位于光瞳面处；及控制器。所述可调整光瞳掩模可包含一或多个可个别寻址控制区带，所述一或多个可个别寻址控制区带跨越所述光瞳面的一或多个部分分布以提供可调整光瞳透射率分布。所述控制器可引导所述可调整光瞳掩模以提供与选定重叠度量方案对应的选定光瞳透射率分布，其中所述选定光瞳透射率分布对应于提供一组选定衍射级从所述目标到所述检测器的透射的所述一或多个控制区带的选定配置。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 重叠 测量 模式 | ||
【主权项】：
暂无信息
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