[发明专利]量测辐射系统中的高压和真空水平传感器在审
| 申请号： | 202180038819.5 | 申请日： | 2021-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN115669233A | 公开（公告）日： | 2023-01-31 |
| 发明（设计）人： | E·M·斯维尔德洛;D·贝塞姆斯;J·D·特德罗;S·莱;G·S·卡瓦利耶;T·W·德赖森;B·A·萨姆斯;D·U·H·特雷斯;E·Z·阿特尼奥;B·M·约翰逊 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁;杨飞 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 提供了用于测量极紫外(EUV)辐射系统中的辐射燃料的水平的系统、装置和方法。在一个示例中，一种用于测量燃料水平的方法包括：以预定入射角，引导检查射束通过辐射燃料的顶部表面处的燃料箱观察端口。该方法还可以包括：在与观察端口相邻定位的传感器处，接收检查射束的由辐射燃料的顶部表面反射的一部分。此外，该方法可以包括：测量与辐射燃料的顶部表面相距的距离；并且基于所测量的距离来计算燃料箱中的辐射燃料的填充水平。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 系统 中的 高压 真空 水平 传感器 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180038819.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：鉴定染色体外DNA特征的方法
- 下一篇：通信控制方法
