[发明专利]水处理装置、超纯水制造装置以及水处理方法在审
| 申请号： | 202180040719.6 | 申请日： | 2021-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN115697915A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 高桥悠介;佐佐木庆介;高桥一重;须藤史生 | 申请（专利权）人： | 奥加诺株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/42 | 分类号： | C02F1/42;C02F1/58 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 张黎;王刚 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供能提高过氧化氢的去除效率的水处理装置。水处理装置(纯水制造装置)(2A)具有：阴离子去除单元(16)，其从包含过氧化氢和阴离子的被处理水中去除阴离子；以及铂族催化剂载体(催化剂塔20)，其位于阴离子去除单元(16)的下游侧。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 装置 超纯水 制造 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥加诺株式会社，未经奥加诺株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202180040719.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：文本回声消除
- 下一篇：制造用于真空室元件的铝合金板的方法
