[发明专利]光调制装置在审
| 申请号： | 202180041664.0 | 申请日： | 2021-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN115997161A | 公开（公告）日： | 2023-04-21 |
| 发明（设计）人： | 金旼俊;瑟极·巴利耶;吴东炫;柳正善;金真弘;金正云;徐汉珉 | 申请（专利权）人： | 株式会社LG化学 |
| 主分类号： | G02F1/13363 | 分类号： | G02F1/13363 |
| 代理公司： | 北京市集佳律师事务所 16095 | 代理人： | 高世豪 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置：其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性，并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露，并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层，并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。 | ||
| 搜索关键词： | 调制 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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