[发明专利]光束强度均匀化元件在审
| 申请号： | 202180042660.4 | 申请日： | 2021-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN115698777A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 长谷山亮;织田学;西山寿美;芦野淳 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 齐秀凤 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开提供一种光束强度均匀化元件，具备光学基体、配置在光学基体的表面的第1透镜阵列和配置在光学基体的背面的第2透镜阵列。第1透镜阵列具有沿着光学基体的表面在多个不同的方向上排列的多个第1模制透镜单元。多个第1模制透镜单元具有形成有沿着第1方向延伸的多个第1线状痕迹且构成光学基体的表面的表面。第2透镜阵列具有沿着光学基体的背面在多个不同的方向上排列的多个第2模制透镜单元。第2模制透镜单元具有形成有沿着与第1方向不同的第2方向延伸的多个第2线状痕迹且构成光学基体的背面的表面。该光束强度均匀化元件能够抑制干涉条纹的产生，并且能够降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光束 强度 均匀 元件 | ||
【主权项】：
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