[发明专利]用于自母模复制可挠性印模的组合件在审
| 申请号： | 202180059519.5 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN116134377A | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | L·W·威尔德森;J·M·特尔默伦;B·J·蒂图莱尔 | 申请（专利权）人： | 莫福托尼克斯控股有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 徐国栋;林柏楠 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
公开一种组合件，其包含用于微结构及纳米结构的压印的母模，该母模在其上表面上具有有效区域，该有效区域具有用于微结构及纳米结构的压印的浮凸结构，其中该母模具有厚度d |
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| 搜索关键词： | 用于 复制 可挠性 印模 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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