[发明专利]研磨垫在审
| 申请号： | 202180088296.5 | 申请日： | 2021-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN116669903A | 公开（公告）日： | 2023-08-29 |
| 发明（设计）人： | 木下修;庄司和夫 | 申请（专利权）人： | 美国环球光学有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 牛蔚然 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
提供能够稳定地实现制品规格变得严格的研磨对象物的要求·精加工品质的研磨垫。由包含大致球状的气泡的发泡体构成的研磨垫，其特征在于，将垫构成材料的密度设为DMg/cm |
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| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
暂无信息
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