[发明专利]用于电子束曝光的对准标记及其制备方法在审
| 申请号： | 202210042527.5 | 申请日： | 2022-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN114460819A | 公开（公告）日： | 2022-05-10 |
| 发明（设计）人： | 张钦彤;裴天 | 申请（专利权）人： | 北京量子信息科学研究院 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 项荣;何春晖 |
| 地址： | 100094 北京市海淀区中*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请提供一种用于电子束曝光的对准标记及其制备方法，制备方法包括：在衬底上覆盖光刻胶；以预定形状对所述光刻胶进行曝光并显影，以去除所述衬底上的一部分光刻胶，从而形成具有所述预定形状的图案；在所述衬底和保留在所述衬底上的光刻胶上沉积金属的同时，使保留在所述衬底上的光刻胶受热膨胀；以及去除保留在所述衬底上的光刻胶及其上沉积的金属，从而在所述衬底上得到具有所述预定形状的沉积金属。本申请的技术方案提高了对准标记的对准效果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 电子束 曝光 对准 标记 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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