[发明专利]一种集成式电压采样的SGT-MOSFET器件有效

专利信息
申请号: 202210048703.6 申请日: 2022-01-17
公开(公告)号: CN114068496B 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 李伟聪;姜春亮;雷秀芳 申请(专利权)人: 深圳市威兆半导体有限公司
主分类号: H01L23/62 分类号: H01L23/62;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/78
代理公司: 北京惟盛达知识产权代理事务所(普通合伙) 11855 代理人: 董鸿柏
地址: 518000 广东省深圳市南山区桃源街道福*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种集成式电压采样的SGT‑MOSFET器件,包括:SGT‑MOSFET主元胞区;两个过压采样区,分别设置在SGT‑MOSFET主元胞区的两侧;两个过压采样辅助区,分别设置在SGT‑MOSFET主元胞区的两侧,在围绕SGT‑MOSFET主元胞区的方向上,过压采样区与过压采样辅助区间隔设置,过压采样辅助区包括多个SGT‑MOSFET过压采样辅助元胞,所述SGT‑MOSFET过压采样辅助元胞与所述SGT‑MOSFET主元胞的结构相同;终端区包围所述两个过压采样区和两个过压采样辅助区。本发明实现了对SGT‑MOSFET的漏极采样,提高了器件的工作寿命。
搜索关键词: 一种 集成 电压 采样 sgt mosfet 器件
【主权项】:
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