[发明专利]二极管结构及半导体装置在审
申请号: | 202210051680.4 | 申请日: | 2022-01-17 |
公开(公告)号: | CN116487442A | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | 李京达;甘铠铨;罗宗仁 | 申请(专利权)人: | 世界先进积体电路股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L29/06;H01L29/40 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 方艳平 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种二极管结构,包含基底、第一井区、第一掺杂区、环状井区、阳极、第二井区、第二掺杂区及阴极。基底具有第一导电类型,第一井区具有与第一导电类型相反的第二导电类型且设置于基底中,第一掺杂区具有第一导电类型且设置于第一井区中,环状井区具有第二导电类型,设置于第一井区中且围绕第一掺杂区,阳极设置于第一掺杂区上,第二井区具有第二导电类型,与第一井区分离且设置于基底中,第二掺杂区具有第二导电类型且设置于第二井区中,阴极设置于第二掺杂区上。 | ||
搜索关键词: | 二极管 结构 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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