[发明专利]一种铁电场效应晶体管存储器件结构在审

专利信息
申请号: 202210081555.8 申请日: 2022-01-24
公开(公告)号: CN114420647A 公开(公告)日: 2022-04-29
发明(设计)人: 孙静;龚希文;谢斌;贺聘彬;苏焱鸿;钟紫晴 申请(专利权)人: 湖南工程学院
主分类号: H01L23/057 分类号: H01L23/057;H01L23/544;H01L23/00;H05K1/18;G11C11/40
代理公司: 广州速正专利代理事务所(普通合伙) 44584 代理人: 钟水祥
地址: 411104 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种铁电场效应晶体管存储器件结构,包括存储器件结构本体,所述存储器件结构本体包括壳体、引脚、压板和防潮板,所述壳体的表面贴装有压板,所述压板的表面设置有信息标签,所述壳体的内部设置有防护层,所述防护层的底端设置有衬底,所述壳体的底端设置有绝缘柱,所述绝缘柱的底端贴装有防潮板,所述壳体的两侧连接有多个引脚,所述引脚的末端设置有焊板,所述焊板的中间设置有锡柱,所述锡柱的侧边连接有铜条,所述壳体的表面涂抹有填充胶,所述压板通过填充胶附着在壳体的顶部,该铁电场效应晶体管存储器件结构具有高效的防伪防篡改功能,焊装时更加快捷精准,引脚安装更加统一稳固,具有一定的防潮效果。
搜索关键词: 一种 电场 效应 晶体管 存储 器件 结构
【主权项】:
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