[发明专利]一种在金属表面制备还原石墨烯薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 202210092739.4 申请日: 2022-01-26
公开(公告)号: CN114540812A 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 王儒涛;李崇兴;赵涵;李桐;张树贤 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: C23C26/00 分类号: C23C26/00;C01B32/184;H01M10/0525;H01G11/32
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王志坤
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供一种在金属箔表面原位制备还原石墨烯薄膜的方法。所述方法是采用聚乙烯醇(PVA)作为添加剂,采铟、铜、铁等金属单质同时作为还原剂和生长基底,制备得到还原石墨烯薄膜。所述方法可在较低温度下制备,可以通过控制反应时间及温度控制膜厚;制备过程无需使用大量有毒试剂,对于环境绿色友好;无需高温加热,节约能源,是一种高效环保的制备方法。
搜索关键词: 一种 金属表面 制备 还原 石墨 薄膜 方法
【主权项】:
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