[发明专利]三维集成电路中的竖直互连结构在审

专利信息
申请号: 202210125260.6 申请日: 2022-02-10
公开(公告)号: CN114792676A 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 杨子贤;野口纮希;藤原英弘;王奕 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L21/768
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 陈蒙
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及三维集成电路中的竖直互连结构。3D IC结构包括多个管芯层,例如顶部管芯层和底部管芯层。顶部管芯层和/或底部管芯层各自包括例如以下项的器件:计算单元、模拟到数字转换器、模拟电路、RF电路、逻辑电路、传感器、输入/输出器件、和/或存储器器件。第一管芯层和第二管芯层上的器件被竖直互连结构(VIS)横向地围绕或与之横向地相邻。
搜索关键词: 三维集成电路 中的 竖直 互连 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210125260.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top