[发明专利]套刻误差的补偿方法在审
| 申请号： | 202210158358.1 | 申请日： | 2022-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN114545743A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 项宁;曲厚任;鲍丙辉;索圣涛 | 申请（专利权）人： | 合肥晶合集成电路股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 周耀君 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种套刻误差的补偿方法，首先提供参考衬底，在所述参考衬底上依次形成第一图形层与第二层图形层，获取第二图形层与第一图形层之间的套刻误差参数，接着提供衬底，在衬底上依次形成第一图形层、第二图形材料层与第一光刻胶层，在对所述第一光刻胶层进行曝光之前，根据所述套刻误差参数，对所述第一光刻胶层进行衬底旋转量补偿与曝光场涨缩量补偿，之后再对第一光刻胶层进行曝光最终形成第二图形层，通过在曝光之前对第一光刻胶层进行补偿，以此降低第二图形层与第一图形层之间的套刻误差，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 误差 补偿 方法 | ||
【主权项】：
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