[发明专利]压印方法、压印光刻系统及物品制造方法在审

专利信息
申请号: 202210171656.4 申请日: 2022-02-24
公开(公告)号: CN114967320A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 娄明吉;吉田贵裕;史蒂文·T·詹金斯;小林谦一;荒川达哉 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 代理人: 迟军;齐文文
地址: 日本东京都*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及压印方法、压印光刻系统及物品制造方法。本公开提供对被支撑在可移动载台上的基板进行压印的方法和系统,所述方法和系统包括:将所述基板上的液体抗蚀剂与模板接触;以及利用第一组控制参数,使用反馈‑前馈控制处理将所述基板与所述模板对准。获得校准数据,并且增大所述抗蚀剂的至少一部分的粘度。在增大所述抗蚀剂的粘度之后,利用第二组控制参数,使用所述反馈‑前馈控制处理将所述基板与所述模板对准,基于所述校准数据确定所述第二组控制参数,并且固化所述模板下方的所述抗蚀剂。
搜索关键词: 压印 方法 光刻 系统 物品 制造
【主权项】:
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