[发明专利]一种计算机控制的化学机械抛光装置在审
申请号: | 202210181173.2 | 申请日: | 2022-02-25 |
公开(公告)号: | CN114473808A | 公开(公告)日: | 2022-05-13 |
发明(设计)人: | 周大刚 | 申请(专利权)人: | 西华师范大学 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B41/06;B24B41/00;B24B57/02;B24B55/06;B24B55/12 |
代理公司: | 陕西铭一知识产权代理有限公司 61287 | 代理人: | 王为 |
地址: | 637002 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种计算机控制的化学机械抛光装置,包括底座,所述底座上端固定连接有液压油缸,所述液压油缸活动端固定连接有安装板,所述安装板上端固定连接有抛光垫,所述底座上端固定连接有U型架,所述U型架内顶部固定连接有电机,所述电机输出端固定连接有圆盘,所述圆盘上安装有固定机构,所述固定机构包括对称固定连接在圆盘下端的多个固定轴,多个所述固定轴下端均固定连接有固定块,所述固定块下端开设有固定槽,所述固定槽内壁对称开设有两个滑槽,两个所述滑槽内壁滑动连接有两个固定杆。本发明中的清洁机构可以快速的将工件表面残留的抛光液和金属污染物清理掉,大大降低了工人的劳动的强度,提高的化学抛光的效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 计算机控制 化学 机械抛光 装置 | ||
【主权项】:
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