[发明专利]一种夹渣含杂的单晶锗废料除杂方法有效

专利信息
申请号: 202210196199.4 申请日: 2022-03-01
公开(公告)号: CN114622272B 公开(公告)日: 2023-09-12
发明(设计)人: 刘得伟;李宝学;杨涛;尹正雄;赵伟;周安祥;陆贵兵;普世坤 申请(专利权)人: 昆明云锗高新技术有限公司;云南中科鑫圆晶体材料有限公司;云南鑫耀半导体材料有限公司
主分类号: C30B15/00 分类号: C30B15/00;C30B29/08
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 刘敏
地址: 650000 云南省昆明市高新*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明属于锗单晶生长技术领域,具体公开一种夹渣含杂锗废料除杂方法,包括以下步骤:单晶锗生长废料融化;废料夹渣降温再结晶:锗废料完全融化为熔融态后,调整加热功率使温度下降15℃~50℃,使熔体再结晶;腔室流场控制:经过再结晶处理后的锗熔体,控制压强、坩埚旋转速度,保持真空泵蝶阀的开度为60%~80%;使锗熔体表面的氧化物浮渣向熔体中心移动;浮渣提拉沾附:控制籽晶杆转速,向下移动与浮渣进行接触,提拉籽晶杆,结晶长大到直径80mm~100mm时,结晶体快速冷却,去除杂质,通过本发明的方案,对单晶锗生长过程中产生的夹渣含杂锗废料进行除杂,经过除杂的锗废料,纯度达到6N以上,成为完全符合P型和N型单晶锗直拉法生长所需的原料。
搜索关键词: 一种 夹渣含杂 单晶锗 废料 方法
【主权项】:
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