[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法在审

专利信息
申请号: 202210222843.0 申请日: 2022-03-07
公开(公告)号: CN115116814A 公开(公告)日: 2022-09-27
发明(设计)人: 郑和俊;大秦充敬;保坂勇贵;郑完崧 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;徐飞跃
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。本发明的等离子体处理装置包括:等离子体处理腔室;配置在等离子体处理腔室内的基片支承部;环状挡板,其以包围基片支承部的方式配置,且具有多个开口;第一环状板,其配置在环状挡板的下方;第二环状板,其配置在第一环状板的下方,具有环状重叠部分,环状重叠部分与第一环状板的一部分在纵向上重叠;压力检测器,其构成为能够检测等离子体处理腔室内的压力;和至少1个致动器,其构成为能够基于检测出的压力来使第一环状板和第二环状板中的至少一者在纵向上移动,以变更第一环状板与第二环状板之间的距离。根据本发明,能够在短时间内控制处理腔室的内部压力。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置 方法
【主权项】:
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