[发明专利]一种制备纯相多壳层Si2 有效
| 申请号： | 202210226836.8 | 申请日： | 2022-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN114684797B | 公开（公告）日： | 2023-10-13 |
| 发明（设计）人： | 耿玉琦;朱庆山;向茂乔;赵宇翔 | 申请（专利权）人： | 中国科学院过程工程研究所 |
| 主分类号： | C01B21/082 | 分类号： | C01B21/082;B01J8/26 |
| 代理公司： | 北京方安思达知识产权代理有限公司 11472 | 代理人： | 刘振;周玉秀 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种制备纯相多壳层Si |
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| 搜索关键词： | 一种 制备 纯相多壳层 si base sub | ||
【主权项】：
暂无信息
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