[发明专利]带有Si与有机中介层的先进封装结构及其制造方法在审
申请号: | 202210238998.3 | 申请日: | 2022-03-11 |
公开(公告)号: | CN114743945A | 公开(公告)日: | 2022-07-12 |
发明(设计)人: | 方立志 | 申请(专利权)人: | 艾司博国际有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L21/48 |
代理公司: | 上海唯源专利代理有限公司 31229 | 代理人: | 季辰玲 |
地址: | 中国香港九龙旺角弥敦道721*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | 本发明公开的一种带有Si与有机中介层的先进封装结构及其制造方法,结构包括低密度布线的基板、高密度RDL布线的Si中介层以及中密度RDL布线的有机介电层,Si中介层内嵌于基板表面,有机介电层采用扇出面板级封装于Si中介层及基板表面且与基板及Si中介层电性连接。Si中介层提供高密度RDL布线,扇出面板级封装制程的有机介电层提供中密度RDL布线,而FCBGA的基板提供低密度的布线,本发明先进封装结构同时使用这三种不同布线密度的介质,可以提供处理器、逻辑与多芯片整合在先进封装结构内,芯片从1个到6个都可以被放入封装体内,芯片数量越多,处理器的运算效率越好。 | ||
搜索关键词: | 带有 si 有机 中介 先进 封装 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
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