[发明专利]薄膜晶体管基板在审

专利信息
申请号: 202210264790.9 申请日: 2022-03-17
公开(公告)号: CN114695387A 公开(公告)日: 2022-07-01
发明(设计)人: 竹知和重;世良贤二;田中淳;何水;林飞鹏 申请(专利权)人: 武汉天马微电子有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/32
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 黄志华;何月华
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种薄膜晶体管基板,包括:绝缘基板;导体层,所述导体层包括氧化物半导体薄膜晶体管的顶栅电极部;氧化物半导体层,所述氧化物半导体层位于所述顶栅电极部的下方且包括所述氧化物半导体薄膜晶体管的沟道区域;以及上绝缘层,所述上绝缘层位于所述导体层和所述氧化物半导体层之间。所述氧化物半导体层包括低电阻区域,所述低电阻区域的电阻低于所述沟道区域的电阻。所述低电阻区域在所述基板的面内方向上夹置所述沟道区域且含有引起所述低电阻区域的电阻降低的杂质。引起所述低电阻区域的电阻降低的所述杂质在层叠方向上的浓度分布具有一个或多个峰值。所述一个或多个峰值位于所述氧化物半导体层的外部。
搜索关键词: 薄膜晶体管
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