[发明专利]一种连续式ALD镀膜设备

摘要

本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种连续式ALD镀膜设备包含箱体组件、真空组件、驱动组件和检测组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。加热腔体设置有加热腔室。连接腔体内设置有用以给工件镀膜的镀膜腔室。冷却腔体设置有冷却腔室。加热腔室和冷却腔室分别能够连通于镀膜腔室。真空组件接合于箱体组件用以抽真空，从而使得加热腔室和冷却腔室能够真空连接于镀膜腔室。驱动组件接合于箱体组件，用以驱使工件在加热腔室、镀膜腔室和冷却腔室之间移动。检测组件接合于箱体组件，用以检测工件或者承载工件的载盘组件。镀膜腔室始终处于真空状态，而不会接触到外界的空气，因此大大提高了生产过程中的洁净度，提高了产品的质量，具有很好的实际意义。