[发明专利]薄膜沉积装置及其布气机构在审
申请号: | 202210325415.0 | 申请日: | 2022-03-29 |
公开(公告)号: | CN114875387A | 公开(公告)日: | 2022-08-09 |
发明(设计)人: | 朱双双;刘强;吴兴华;黎微明 | 申请(专利权)人: | 江苏微导纳米科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/455 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 李申 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请公开了一种薄膜沉积装置及其布气机构,布气机构包括沿第一方向依次设置的喷淋背板、均气板、匀流板和喷淋板;其中,喷淋背板和喷淋板共同形成喷淋头,均气板和匀流板位于喷淋头内,匀流板和喷淋背板之间形成第一均气腔,匀流板和喷淋板之间形成第二均气腔,均气板设于第一均气腔内;喷淋背板在面对均气板的位置设有第一通孔;均气板设有贯通的均气孔;匀流板设有贯通的匀流孔,匀流孔用于使工艺气体从第一均气腔进入第二均气腔;喷淋板设有贯通的喷淋孔。本申请提供的薄膜沉积装置及其布气机构,能够提高布气均匀性,从而提高薄膜沉积均匀性。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 沉积 装置 及其 机构 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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