[发明专利]一种晶圆片清洗组件、清洗装置及清洗方法在审
| 申请号： | 202210445227.1 | 申请日： | 2022-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN114769200A | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 胡仲波;冯永;李健儿;蒋红全;周建余 | 申请（专利权）人： | 四川上特科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 成都诚中致达专利代理有限公司 51280 | 代理人： | 曹宇杰 |
| 地址： | 629201 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶圆片清洗组件、清洗装置及清洗方法，清洗组件用于清洗晶圆片，包括清洗池、清洗槽、多个水喷头。清洗槽左右两端连接于清洗池内壁，清洗槽底部悬空，且底部开口设置；水喷头形状为圆盘状，连接有水管，水喷头两面均设有喷水孔，清洗槽内间隔设有喷头卡槽、晶圆片卡槽，多个水喷头依次排列于喷头卡槽内；若干晶圆片依次排列于晶圆片卡槽内。将浸泡式清洗改成喷洒式清洗，可以清洗每一个晶圆片，并且便于污水快速流走，可以极大的提高晶圆片的清洗效果和清洗效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶圆片 清洗 组件 装置 方法 | ||
【主权项】：
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