[发明专利]一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶在审
| 申请号： | 202210454961.4 | 申请日： | 2022-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN114815506A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 孙逊运;周元基;刘聘;宿磊;周田田 | 申请（专利权）人： | 潍坊星泰克微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/039;G03F7/32 |
| 代理公司： | 北京贵都专利代理事务所(普通合伙) 11649 | 代理人： | 李新锋 |
| 地址： | 261061 山东省潍坊市高新区*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，其组分包括聚酰胺酸树脂、碱性催化剂、光产酸剂、溶剂，所述的正性光刻胶组成如下(按重量百分比计，各组分相加为100％)：聚酰胺酸树脂10％‑50％；碱性催化剂0.5％‑10％；光产酸剂0.5％‑10％；溶剂50％‑90％。本发明提供一种基于碱去活性机理的聚酰亚胺正性光刻胶，该种光刻胶属于化学放大光刻胶，光敏感性强，以3微米胶厚为例，曝光剂量可以降低至50～70mj/cm |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 活性 机理 聚酰亚胺 光刻 | ||
【主权项】：
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