[发明专利]一种方形片的抛光工艺在审
| 申请号： | 202210457552.X | 申请日： | 2022-04-28 |
| 公开（公告）号： | CN114800055A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 韩巍巍;韩威风;纪枭;王丙森 | 申请（专利权）人： | 浙江美迪凯光学半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B13/00;B24B13/005;B24B57/04 |
| 代理公司： | 杭州华知专利事务所(普通合伙) 33235 | 代理人： | 张德宝 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种方形片的抛光工艺。本发明抛光工艺减少了一次抛光的时间，减少一次抛光的加工厚度，用一次抛光对方形片毛坯快速抛光，得到半成品；增加二次抛光的时间及加工量，配合组合式游星轮对方形片进行TTV的改善；添加三次抛光，在不影响TTV的同时对方形片的表面进行微加工，提高表面的额清洁度。本发明二次抛光和三次抛光使用抛光用组合游星轮对其进行抛光，使产品与抛光皮的摩擦均匀，减小同一片产品的厚度散差，提高产品的合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 方形 抛光 工艺 | ||
【主权项】：
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