[发明专利]一种高附着力光电薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202210491981.9 | 申请日： | 2022-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN114921750A | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 洪耀;张民井;朱松山;产桂方;戚晓瑛 | 申请（专利权）人： | 枣庄睿诺电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/08;C23C14/18;C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 韩承志 |
| 地址： | 277800 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种高附着力光电薄膜及其制备方法和应用，所述高附着力光电薄膜包括依次层叠设置的衬底、过渡层以及金属层；所述过渡层包括氧化钼层；所述金属层包括两层钼层以及所述两层钼层中间夹设的铝层；所述制备方法包括：对预处理后的衬底表面进行粗糙化处理；采用磁控溅射法在经粗糙化处理后的衬底表面沉积过渡层，得到半成品；采用磁控溅射法在得到的半成品的过渡层上沉积金属层，得到光电薄膜；所述光电薄膜通过将氧化钼层作为过渡层，极大地提高了衬底与金属层之间的附着性；所述制备方法工艺流程简单，无需使用危险化学溶液，安全性高，所得产品良率高，具有较好的工业化应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 附着力 光电 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于枣庄睿诺电子科技有限公司，未经枣庄睿诺电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210491981.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
