[发明专利]基于VB法与VGF法结合的砷化铟单晶生长方法有效

专利信息
申请号: 202210496774.2 申请日: 2022-05-09
公开(公告)号: CN115029783B 公开(公告)日: 2023-10-03
发明(设计)人: 韩家贤;邱锋;许天;惠峰;韦华;赵兴凯;王顺金;柳廷龙;刘汉保;黄平;何永彬;叶晓达 申请(专利权)人: 云南鑫耀半导体材料有限公司;云南中科鑫圆晶体材料有限公司;云南临沧鑫圆锗业股份有限公司
主分类号: C30B29/40 分类号: C30B29/40;C30B11/00
代理公司: 昆明祥和知识产权代理有限公司 53114 代理人: 和琳
地址: 650000 云南省昆*** 国省代码: 云南;53
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摘要: 基于VB法与VGF法结合的砷化铟单晶生长方法,涉及一种VB法与VGF法结合砷化铟晶体生长装置、装料方法以及晶体生长工艺。所述的生长装置,由加热炉体、热场系统、支撑系统、容器系统和坩埚下降装置组成,所述生长方法,包括装料、装炉、化料、接籽晶、放肩、等径生长、冷却退火步骤。所述的装料容器分为上坩埚、下坩埚和石英安瓿瓶,利用锥形料、圆饼料和梯型料合理的搭配设计,不但能使装料结构稳定、还有助于高温时很好的化料,可以有效提高成晶率31%,通过砷化铟多晶的合成、装料、单晶生长获得籽晶胚、籽晶胚加工获得籽晶,再进行单晶生长,最终生长远低于LEC生长的低位错的砷化铟单晶。
搜索关键词: 基于 vb vgf 结合 砷化铟单晶 生长 方法
【主权项】:
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