[发明专利]一种PECVD反应装置

摘要

本发明提供了一种PECVD反应装置，涉及半导体技术领域。PECVD反应装置包括托盘组件、支撑盘、真空反应腔体、传动组件以及旋转升降机构。托盘组件和支撑盘均设置于真空反应腔体内，真空反应腔体为真空密封腔体，支撑盘用于承载晶圆，托盘组件用于对承载于支撑盘上的晶圆进行加工。传动组件的一端进入真空反应腔体并与支撑盘连接，另一端与旋转升降机构连接，旋转升降机构用于带动支撑盘进行升降和旋转运动。因此，本发明提供的PECVD反应装置采用模块化设计，整体结构简单，升降和旋转控制简单，加工效率高，能够精准且稳定地输送晶圆，从而提高晶圆加工工艺的均匀性及稳定性。