[发明专利]晶片电阻器以及晶片电阻器的制造方法在审
| 申请号： | 202210644376.0 | 申请日： | 2022-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN115472359A | 公开（公告）日： | 2022-12-13 |
| 发明（设计）人： | 冈直人 | 申请（专利权）人： | KOA株式会社 |
| 主分类号： | H01C1/032 | 分类号： | H01C1/032;H01C1/14;H01C10/00;H01C17/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本长野*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种制造步骤单纯且适合小型化的晶片电阻器。本发明的晶片电阻器的制造方法中，是由在大尺寸基板(10A)上所设定的二次分割预想线(L2)所包夹且与一次分割预想线(L1)正交方向延伸的区域内带状地形成电阻体(2)，并于该电阻体(2)上保持既定间隔以跨过一次分割预想线(L1)的方式形成对向的多个表电极(3)后，形成覆盖各电阻体(2)并与二次分割预想线(L2)交叉的方向延伸的玻璃涂层(7)，且形成从玻璃涂层(7)之上覆盖大尺寸基板(10A)的表面全体的树脂涂层(8)，之后，将大尺寸基板(10A)沿着一次分割预想线(L1)及二次分割预想线(L2)切割而得到各个晶片坯体(10B)。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 电阻器 以及 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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