[发明专利]一种耐等离子体刻蚀绝缘介质板及其制备方法在审
申请号: | 202210667348.0 | 申请日: | 2022-06-13 |
公开(公告)号: | CN114900939A | 公开(公告)日: | 2022-08-12 |
发明(设计)人: | 陈旭东;冯峰;杜鹏程;田杏欢;成星;李庆 | 申请(专利权)人: | 重庆丝路智能制造研究院有限公司 |
主分类号: | H05H1/24 | 分类号: | H05H1/24 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 李莹 |
地址: | 404100 重庆市南*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明涉及高压放电绝缘介质板技术领域,尤其涉及一种耐等离子体刻蚀的绝缘介质板及其制备方法,包括以下步骤:S1、研磨绝缘介质板及制备薄膜材料;S2、在绝缘介质板上喷涂薄膜材料;S3、热处理制得成品。本发明中的绝缘介质板表面粗糙化处理后喷涂薄膜,能有效保护绝缘介质板材料不被等离子刻蚀和不被高压击穿。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子体 刻蚀 绝缘 介质 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
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