[发明专利]一种物理气相沉积用双面镀膜载板在审
| 申请号： | 202210703651.1 | 申请日： | 2022-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN114990514A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 赵宇;董刚强;郁操;冉孝超;张永胜 | 申请（专利权）人： | 苏州迈为科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/35;H01L31/18 |
| 代理公司： | 江苏瑞途律师事务所 32346 | 代理人： | 王珒 |
| 地址： | 215215 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种物理气相沉积用双面镀膜载板，属于真空镀膜技术领域。它包括在载板上镂空形成的多个基板放置区，所述基板放置区上下两面均设有开口；至少两个所述基板放置区之间设有穿过载板的通孔；所述通孔的端部相邻于基板放置区一侧设有阻挡件，所述阻挡件由载板表面向外延伸设置，用于阻挡镀膜时溅射出的电子和/或离子和/或原子和/或等离子体。本发明能解决电子在载板上的积累以及绕镀现象的问题，能够进一步提高基板表面镀膜的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 物理 沉积 双面 镀膜 | ||
【主权项】：
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