[发明专利]一种掩膜版光刻胶厚度测量装置及测量方法

摘要

本发明涉及光刻胶厚度测量，具体涉及一种掩膜版光刻胶厚度测量装置及测量方法，包括用于测量待测样板光刻胶厚度的测量单元，以及主控单元，主控单元接收测量单元的检测数据，并对检测数据进行处理，得到待测样板的光刻胶厚度；主控单元利用来自表面光刻胶的反射光与来自基板的反射光之间的干涉计算得到标准波形，并根据测量得到的测量波形与标准波形进行拟合，将匹配度最高的标准波形对应的光刻胶厚度作为测量结果；本发明提供的技术方案能够有效克服现有技术所存在的无法对光刻胶厚度较薄的待测样板进行准确检测、光刻胶厚度测量精度较低的缺陷。