[发明专利]一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置在审
申请号: | 202210736995.2 | 申请日: | 2022-06-27 |
公开(公告)号: | CN115011946A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 李明娟;刘伟波 | 申请(专利权)人: | 滨州学院 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/50 |
代理公司: | 青岛恒昇众力知识产权代理事务所(普通合伙) 37332 | 代理人: | 刘敏 |
地址: | 256600 *** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及等离子体气相沉积技术领域,具体为一种用于航空材料的等离子体气相沉积装置,包括:反应仓,反应仓的内部设置有活塞杆;活塞杆,活塞杆的表面设置有连接杆,连接杆的端部安装有收集架,收集架的顶部安装有第一立杆,第一立杆的顶部设置有立杆,立杆的顶部设置有伸缩杆,伸缩杆的端部安装有清理板及气缸,设于反应仓的底部;有益效果为:本发明提出的气缸带动活塞杆上升,活塞杆上升后通过连接杆带动收集架上升,清理板表面的第一刮除杆接触到反应仓的内壁,将反应仓内部的残留物刮除,且第一刮除杆的端部设置有第二刮除杆,加大刮除的面积,且第一刮除杆的底部设置有刮除板,刮除板对反应仓内部的残留物进一步的刮除。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 航空 材料 等离子体 沉积 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的