[发明专利]反应腔室及半导体设备

摘要

一种反应腔室及半导体设备，反应腔室包括：腔体；承载装置，用于向腔体内传输晶片，承载装置包括多个从上至下依次间隔设置的承载板，多个承载板中的至少部分承载板的上表面用于承载晶片，多个承载板中的至少部分承载板内设有气体通道，气体通道贯穿承载板的下表面；进气机构，进气机构穿过腔体的侧壁，且能够相对于腔体移动，以使进气机构能够与气体通道活动连接，进气机构用于与外部气源连通，以向气体通道内通入气体；驱动机构，驱动机构与进气机构连接，用于驱动进气机构与气体通道连通或断开。该反应腔室能够提高布气均匀性，提高气体的利用率。