[发明专利]一种前后双平台曝光机在审
| 申请号： | 202210777464.8 | 申请日： | 2022-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN115097699A | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 蔡志国;吴德和;普丽宏 | 申请（专利权）人： | 深圳凯世光研股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人： | 刘洋;刘国童 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝安区航城街*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种前后双平台曝光机，解决现有技术的工件曝光设备曝光效率低的问题。包括有底座，设置在底座上的曝光台，以及曝光装置，曝光时，第一供料机构从前侧进行上料，第一供料机构沿曝光台滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光，同时第二供料机构从后侧进行上料，第二供料机构上料完毕，第一供料机构上的工件曝光完毕，然后第一供料机构返回将工件送出至第一供料机构上料的位置，然后第一供料机构滑动将工件送到曝光装置下方进行曝光，此时第一供料机构进行下料后并进行上料，第二供料机构上的工件曝光完毕，然后第二供料机构返回将工件送出至第二供料机构上料的位置，如此反复，从而前后双平台上下料，前后双台面交替作业，生产效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 前后 平台 曝光 | ||
【主权项】：
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